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第305章 光刻机即将突破

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听起来似乎有些落后。

但作为一名穿越者,许晨非常清楚,65nm干式光刻机,是华国半导体工业必须跨过去的一道天堑,也是一切高级工艺的基石!

因为物理定律决定了,193nm波长的激光,在空气中(干式)折射的物理极限,最多只能雕刻出65nm的线宽。

只要掌握了65nm干式光刻机,就意味着华国在光刻机最核心的机械控制、光学镜片研磨和光源稳定性上,真正达到了世界一流水平。

而跨过了这一步,接下来的路就清晰了。

只要在镜头和晶圆之间加入一层纯水(即浸没式光刻技术),利用水的折射率,就能把同样的193nm激光波长,等效缩短到134nm。

这样一来,这台65nm的干式光刻机,稍微一升级,就能顺理成章地变成可以制造45nm、28nm甚至通过多重曝光达到14nm工艺的浸没式DUV光刻机!

万丈高楼平地起,而这台65nm干式机,就是那块最坚固的地基。

许晨转过身,沉声说道:“订机票。不要动用集团资源,用个人的名义订两张飞魔都的票,越低调越好。明天一早,我们去上微电子。”

“明白。”陈立峰立刻点头。

整机集成的最后一步,犹如攀登珠穆朗玛峰的最后十米。许晨知道,他必须亲自去现场,见证这个属于华国工业史上的关键时刻。

......

(四章更新,各位读者大大求催更求免费的小礼物,接下来就是65nm的成功,然后到2018年就可以稳定量产,升级一下,就到45nm,2019年的时候制裁开始加大,正好能接上,基本上不会影响到天宇集团,然后光刻机搞出来就是半导体芯片的开发,也是会出一些成果的,有汽车相关也有手机相关的,看到这没有给好评的读者大大们,求一个五星好评谢谢大家!!)



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