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第四十八章 光源样品

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倒入溶液,用铝箔把烧杯口封住,然后用超声波清洗仪超声。

溶液分别是去离子水、丙酮、异丙醇,各自超声10分钟,最后再用氮气枪将硅片吹干,放入培养皿中。”

“这和清洗玻璃基片的步骤也差不多啊,除了不用肥皂水以外。”许秋道。

“是呀,不过在用氮气枪的时候要小心,硅片比ITO玻璃基片更容易飞掉。”陈婉清提醒道。

“好的。”许秋道:“对了,吴菲菲和段云他们不需要做样品吗?”

“吴菲菲的三维钙钛矿材料,遇到氧气会直接变质,没办法测试;

段云主要做无机热电材料,他在学校里用XRD就可以测试了,不需要跑到光源去测试。”陈婉清道。

…………

有了学姐的提醒,许秋在吹干硅片时,没出现太大的失误,只吹飞了一片。

然后,他和学姐一同讨论要做哪些样品。

P3HT的话,陈婉清有6个共混体系,3个单独组分,共9种;

旋涂方法包括正常旋涂和喷涂,共2种;

每种再设置2组转速;

一共36组条件。

PTB7-TH体系,1个共混体系,2个单独组分,共3种。

溶剂添加剂包含不添加和2种不同的体积分数,一共有3种;

退火和不退火,一共2种;

每种再设置2组转速;

一共36组条件。

其实转速对于最终结果的影响不大,但是有机样品的信号普遍较弱,为了防止意外,确保每个体系都能测出来信号,所以要尽量多的准备样品。

因为硅片的面积较小,所以采用数值编号,从1到72,许秋将编号对应的实验条件记录在实验记录本上。

然后,他将吹干的硅片臭氧处理后,传入手套箱中,准备旋涂。

硅片的旋涂操作与正常的相差无几,虽然硅片面积比较小,但是它的表面平整且硬度高。

因此只需要换一个小型匀胶机吸台,就可以将硅片牢牢吸住,不需要像PEN基片一样需要贴在玻璃上才能进行旋涂。

两个小时后,许秋制备好了全部的样品,并在每个硅片背后都标记了编号。

其中包含6、9数字的样品,需要在其下方划一道横线,以此确认究竟是6还是9。

…………

回到办公桌,许秋没忘记向学姐请教测试原理。


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