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第九十四章 芯片工艺

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  对于信越、LG化学的垂死挣扎,黄豪杰没有在意。

因为对于银河科技而言,硅片的面积已经失去了意义。

如果需要,中子星公司随时生产大面积的方晶片,所以就算是信越、LG化学他们研发出来18英寸圆晶片,也于事无补。

中子星材料公司的方晶片全面领先圆晶片,是势不可挡的大势,他们的垂死挣扎不过是螳臂当车罢了。

现在黄豪杰正在银河科技的半导体研究所之中。

银河科技自己招聘的一百多个半导体专业的毕业生,加上五个从国内半导体企业挖过来的工程师或者研究员,加上张汝京带过来十几个工程师和研究员。

尽管银河科技的半导体研究所,现在只有一百多人,但是麻雀虽小,五脏俱全。

黄豪杰看着有条不紊的半导体研究所满意的点了点头。

“李想,你们对于C31搬运其他的芯片物质的机制,研究得怎么样?”

李想提了提眼镜略带兴奋的回道:“这个C31富勒烯可以搬运制作芯片的绝大部分原材料,其他一小部分就算是不能搬运,我们也可以采用可以搬运的原材料进行替代。”

“非常好。”

“老板,我觉得你的这个发明可以获得炸药奖。”一个地中海研究员赞叹不已。

“炸药奖又如何?我不需要这种东西。”黄豪杰不是真正的科班出身,对于炸药奖这种东西并没有太在意。

……一众研究员和工程师顿时无语凝噎,别人挤破脑袋都想获得炸药奖,自己老板倒好,一点都不在乎。

黄豪杰和一众工程师,正在研发一种有别于目前的芯片工艺的芯片制作工艺。

一般来说,芯片制造厂的制作芯片,都是直接从硅片厂购买硅片的,而不会自己生产。

芯片制造厂先会检查硅片,经过检查无破损后即可投入生产线上,前期可能还有各种成膜工艺,然后就进入到涂抹光刻胶环节。

微影光刻工艺是一种图形影印技术,也是集成电路制造工艺中一项关键工艺。

首先将光刻胶(感光性树脂)滴在硅晶圆片上,通过高速旋转均匀涂抹成光刻胶薄膜,并施加以适当的温度固化光刻胶薄膜。

光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料,可以在光照后发生化学性质的改变,这是整个工艺的基础。

接下来就是紫外线曝光。

就单项技术工艺来说,光刻工艺环节


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